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集流體磁控卷繞鍍膜設(shè)備

(卷繞鍍膜設(shè)備)
集流體磁控卷繞鍍膜設(shè)備應用于手提電腦、手機殼,電話,電信設(shè)備,視聽電子,搖控器、導航和醫(yī)用工具、DVD, 汽車電子等電子產(chǎn)品塑膠外殼表面上鍍制電磁屏蔽(EMI)薄膜的專用設(shè)備。
產(chǎn)品優(yōu)點:
PLC人機界面自動控制系統(tǒng),隨時可修改鍍膜參數(shù)。具備優(yōu)秀的薄膜均勻性和臺階覆蓋能力,可出色地實現(xiàn)不同金屬工藝濺射的要求 。利用等離子體表面處理技術(shù),并采用真空蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜工藝相結(jié)合,以真空蒸發(fā)鍍Ag、Cu,以磁控濺射鍍Ni,實現(xiàn)EMI鍍膜。有臥式、立式結(jié)構(gòu),可實現(xiàn)單面同時鍍膜 生產(chǎn)效率速度達1分鐘/節(jié)拍 模組化設(shè)計,維護方便 鍍膜工藝成熟,成品率高 等優(yōu)點。
產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品詳情
集流體磁控卷繞鍍膜設(shè)備(NH-MGCC系列)
 


NH-MGCC1200TEX NH-MGCC1350TEX NH-MGCC1500TEX
真空室尺寸 D1200mm×H1000mm D1350mm×H1200mm D1500mm×H1200mm
制膜種類 EMI防電磁干擾屏蔽膜、金屬導電膜等
電源類型 直流磁控電源+高壓離子轟擊電源
圓柱靶 直流磁控靶(無氧銅靶+不繡鋼靶)
真空室結(jié)構(gòu) 立式雙開門、立式單開門
真空系統(tǒng) 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統(tǒng))
充氣系統(tǒng) 質(zhì)量流量控制儀(1-3路)
極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3 pa小于6分鐘
工件旋轉(zhuǎn)方式 真6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無級調(diào)速
控制方式 手動+半自動+全自動—體化/觸摸屏+PLC
備注 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做